上海新阳光刻胶最新进展 (上海新阳光刻胶什么水平)

上海新阳光刻胶有限公司（以下简称“新阳光刻胶”）是国内领先的光刻胶研发和生产企业。近年来，新阳光刻胶不断加大研发投入，取得了多项重大技术突破。最新进展如下：

1. 28nm深紫外光刻胶研发成功

新阳光刻胶研发的28nm深紫外光刻胶已进入量产阶段，打破了国外厂商对高端光刻胶的垄断。该光刻胶具有以下特点：

• 分辨率高，可实现28nm以下制程的芯片制造
• 配方先进，光刻性能优异
• 稳定性好，良率高

2. 193nm浸润式光刻胶量产

新阳光刻胶的193nm浸润式光刻胶已进入大规模量产，广泛应用于14nm及以下制程的芯片制造。该光刻胶具有以下特点：

• 分辨率极高，可实现193nm波长下的极限分辨率
• 曝光窗宽大，工艺稳定性好
• 生产成本低，性价比高

3. EUV光刻胶研发取得重大进展

新阳光刻胶在EUV光刻胶领域取得了重大进展，研发的EUV光刻胶已进入小批量试产阶段。该光刻胶具有以下特点：

• 分辨率高，可实现7nm及以下制程的芯片制造
• 光刻性能优异，满足EUV光刻工艺的要求
• 稳定性好，良率高

4. 关键原材料自研成功

为了保障供应链安全，新阳光刻胶加大关键原材料的研发力度，已成功实现光刻胶核心原材料聚合物的自主研制。该聚合物具有以下特点：

• 性能优异，满足光刻胶的工艺要求
• 生产成本低，降低了光刻胶的整体成本
• 供应链稳定，保障了光刻胶的稳定生产

5. 国家级研发平台建设

新阳光刻胶与清华大学、中国科学院微电子研究所等科研机构合作，共建了国家光刻胶技术研发平台。该平台汇聚了国内光刻胶领域的顶尖专家，为新阳光刻胶的研发提供了强大的技术支撑。

6. 国际认证和认可

新阳光刻胶已获得ISO9001、ISO14001等国际权威认证。其产品质量和技术水平获得了国内外客户的广泛认可。新阳光刻胶的产品已出口到全球多个国家和地区。

7. 投资建设新工厂

为满足市场需求，新阳光刻胶斥巨资投资建设新工厂。新工厂预计将于2024年建成投产，产能将大幅提升。新工厂的建成将进一步提升新阳光刻胶的市场竞争力。

结论

上海新阳光刻胶有限公司在光刻胶领域取得了长足的进步。其最新进展充分展示了中国光刻胶产业的实力。新阳光刻胶将继续加大研发投入，不断提升技术水平，为中国半导体产业的发展作出更大贡献。