上海新阳光刻胶产能 (上海新阳光刻胶)

上海新阳光刻胶有限公司（以下简称“新阳光刻胶”）是国内领先的光刻胶供应商，在半导体产业链中占据重要地位。随着半导体行业的发展，对光刻胶的需求不断增加，新阳光刻胶的产能也备受关注。

产能概况

目前，新阳光刻胶拥有三大生产基地，分别位于上海、苏州和无锡，总产能约为 10 万吨/年。其中，上海基地是公司的研发和生产中心，主要生产高端光刻胶产品；苏州基地和无锡基地则主要生产中低端光刻胶产品。

新阳光刻胶的产能主要分布在以下几个方面：

• i-线光刻胶：产能约为 5 万吨/年，主要应用于 28nm 及以上制程。
• ArF 光刻胶：产能约为 3 万吨/年，主要应用于 14nm 及以下制程。
• EUV 光刻胶：产能约为 2 万吨/年，主要应用于 7nm 及以下制程。

产能规划

为了满足不断增长的市场需求，新阳光刻胶正在积极扩产。公司计划在未来几年内将产能提升至 20 万吨/年。其中，i-线光刻胶产能将提升至 8 万吨/年，ArF 光刻胶产能将提升至 9 万吨/年，EUV 光刻胶产能将提升至 3 万吨/年。

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