上海新阳光刻胶 (上海新阳光刻胶最新进展)

最新进展

上海新阳光刻胶技术有限公司（以下简称“新阳光”）成立于2016年，是一家专注于高性能光刻胶研发、制造和销售的国家级高新技术企业。公司自成立以来，一直致力于为半导体产业提供先进的光刻胶产品和技术。目前，上海新阳光刻胶产品已广泛应用于国内外各大半导体制造厂，并在14nm/10nm/7nm等先进制程节点中实现批量生产。

近年来，上海新阳光刻胶在技术研发方面取得了长足的进步，尤其是在以下几个方面：

• 低介电常数刻胶：新阳光自主研发的新一代低介电常数刻胶技术，打破了国外企业的技术垄断，打破了国外企业的技术垄断，可实现28nm以下制程节点的先进光刻工艺。该技术具有刻蚀 selectivity低、成膜均匀性好、线宽控制精度高等优点，可有效提高集成电路芯片的性能和良率。
• ArF光刻胶：新阳光ArF光刻胶产品已达到国际领先水平，并已在国内外主流半导体晶圆厂批量生产。该产品具有分辨率高、刻蚀选择性好、抗污染能力强等优点，可满足先进制程节点对高精度光刻工艺的要求。
• EUV光刻胶：新阳光EUV光刻胶产品已具备产业化生产能力。该产品具有耐热性好、分辨率高、成膜均匀性好等优点，可满足先进制程节点对EUV光刻工艺的要求。目前，新阳光EUV光刻胶已通过国际多家半导体晶圆厂验证，并体系，通过ISO9001、ISO14001等认证，确保产品质量稳定可靠。
• 优质的客户服务：新阳光刻胶重视客户服务，为客户提供全方位的技术支持和服务，帮助客户提升生产效率和产品质量。

新阳光刻胶技术有限公司致力于为中国半导体产业提供先进的光刻胶产品和技术，助力中国半导体产业自主可控和高质量发展。