作为我国半导体产业发展的重点领域，光刻机技术一直备受关注。近日，上海微电子设备(集团)股份有限公司（以下简称“上海微电子”）在28nm光刻机研制方面取得了重大进展，标志着我国在半导体设备制造领域迈出了重要一步。 现状和困境 光刻机是半导体制造过程中必不可少的关键...

简介 上海微电子28nm光刻机是一款由中国上海微电子装备（集团）有限公司研发的极紫外（EUV）光刻机。它是中国第一台自主研发和生产的EUV光刻机，标志着中国在半导体制造设备领域取得重大突破。 技术规格 光源波长：13.5nm 分辨率：28n...