上海微电子28nm (上海微电子28nm光刻机)
上海桑拿
07-28
阅读:1
评论:18
![](/gg/hf11.gif)
简介
上海微电子28nm光刻机是一款由中国上海微电子装备(集团)有限公司研发的极紫外(EUV)光刻机。它是中国第一台自主研发和生产的EUV光刻机,标志着中国在半导体制造设备领域取得重大突破。
技术规格
- 光源波长:13.5nm
- 分辨率:28nm
- 曝光面积:26mm x 33mm
- 步进精度:1nm
- 对准精度:±5nm
应用领域
上海微电子28nm光刻机主要应用于半导体制造领域,用于生产先进的晶体管和集成电路。它可广泛应用于移动设备、计算机、汽车电子和工业控制等行业。
![上海微电子28nm (上海微电子28nm光刻机)](https://all-brilliant.com/thumb/20240728134300_75017.jpg)
竞争优势
- 自主研发:上海微电子2
版权声明
本文仅代表作者观点,不代表上海桑拿立场。
本文系作者授权发表,未经许可,不得转载。