上海微电子28nm (上海微电子28nm光刻机)

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简介

上海微电子28nm光刻机是一款由中国上海微电子装备(集团)有限公司研发的极紫外(EUV)光刻机。它是中国第一台自主研发和生产的EUV光刻机,标志着中国在半导体制造设备领域取得重大突破。

技术规格

  • 光源波长:13.5nm
  • 分辨率:28nm
  • 曝光面积:26mm x 33mm
  • 步进精度:1nm
  • 对准精度:±5nm

应用领域

上海微电子28nm光刻机主要应用于半导体制造领域,用于生产先进的晶体管和集成电路。它可广泛应用于移动设备、计算机、汽车电子和工业控制等行业。

上海微电子28nm (上海微电子28nm光刻机)

竞争优势

  • 自主研发:上海微电子2
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