近日，上海微电子宣布其28nm光刻机量产，标志着中国在光刻机领域取得了重大突破。 背景 光刻机是芯片制造过程中最重要的设备之一，用于将电路图样转移到硅片上。目前，全球最先进的光刻机由荷兰的ASML公司生产，可以制造出5nm以下制程的芯片。 由于美国对中国的高...

背景 光刻机是集成电路制造中最关键的设备之一，用于将电路图案转移到硅片上。上海微电子是中国领先的光刻机制造商，近年来一直在研发28纳米光刻机。 技术突破 上海微电子28纳米光刻机采用了一系列先进技术，包括： 浸没式曝光：在曝光过程中将透镜浸没在液...

随着科技的飞速发展，芯片在我们的生活中扮演着越来越重要的角色。芯片被广泛应用于智能手机、计算机、汽车等电子产品中，其性能直接影响着产品的质量和用户体验。近年来，中国在芯片制造领域取得了长足的进步，其中上海微电子的 28nm 光刻机备受关注。 什么是光刻机? 光刻机...

概述 上海微电子28nm光刻机是中国自主研发的首台28纳米光刻机，具有里程碑意义。光刻机是半导体制造中最关键的设备之一，用于在晶圆上制造微电子电路。 上海微电子的28nm光刻机于2022年12月首次亮相，引起了业界的广泛关注和期待。这标志着中国在光刻机领域取得了重大突破...

近日，上海微电子装备（集团）有限公司（以下简称“上海微电子”）成功交付首台国产 28nm 光刻机，标志着我国在集成电路制造关键核心技术领域取得重大突破，实现了从“有”到“优”的跨越。 国产光刻机的重要意义 打破国外垄断，提升我国集成电路产业链自主可控能力...

上海微电子装备（集团）有限公司（SMEE）宣布，其自主研发的28nm光刻机已实现量产。这是中国大陆首台自主研发的28nm光刻机，标志着中国在先进光刻技术领域取得重大突破。 光刻技术的意义 光刻技术是集成电路制造过程中的一项关键技术，用于将电路设计图案转移到硅片上...

2023年3月1日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（以下简称“上海微电子”）宣布，其自主研发的28纳米光刻机已成功量产，标志着中国在高端芯片制造装备领域取得重大突破。 光刻机的重要意义 光刻机是半导体芯片制造过程中至关重要的设备，其精度和分辨率直接决定了芯片的...

上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称“上海微电子”）是中国半导体装备行业的龙头企业，也是全球领先的光刻机供应商之一。近日，上海微电子宣布其国产28nm光刻机最新进展，引起业界广泛关注。 技术突破 上海微电子28nm光刻机采用了多项自主研发的核心技术，包括：...

简介 上海微电子28nm光刻机是一款由中国上海微电子装备（集团）有限公司研发的极紫外（EUV）光刻机。它是中国第一台自主研发和生产的EUV光刻机，标志着中国在半导体制造设备领域取得重大突破。 技术规格 光源波长：13.5nm 分辨率：28n...

上海微电子 (SMEE) 是中国领先的半导体制造商之一。该公司正在开发和制造一种先进的 28nm 光刻机，预计将在 2025 年交付。 技术规格 SMEE 的 28nm 光刻机将具有以下技术规格： 分辨率：28nm 场大小：26mm x...