上海微电子28nm光刻机交付时间 (上海微电子28nm光刻机)

上海微电子 (SMEE) 是中国领先的半导体制造商之一。该公司正在开发和制造一种先进的 28nm 光刻机，预计将在 2025 年交付。

技术规格

SMEE 的 28nm 光刻机将具有以下技术规格：

• 分辨率：28nm
• 场大小：26mm x 26mm
• 生产率：每小时 125 片晶圆

市场前景

对于先进的半导体制造至关重要，对 28nm 光刻机的需求预计将在未来几年大幅增长。该技术将用于生产各种电子设备，包括智能手机、平板电脑和汽车。

研发进展

SMEE 已在 28nm 光刻机的研发上投入了大量资金。该公司已取得重大进展，并有望在 2025 年交付成品。

国际合作

为了加快开发速度，SMEE 与多家国际公司进行了合作。这些合作包括：

• 与阿斯麦合作开发光学系统
• 与西门子和蔡司合作开发光刻胶和掩模

交付时间表

SMEE 28nm 光刻机的交付时间表如下：

• 2022 年：完成研发
• 2023 年：开始试生产
• 2024 年：批量生产
• 2025 年：交付

影响

SMEE 的 28nm 光刻机有望对全球半导体行业产生重大影响。它将使中国能够生产更先进的半导体芯片，并减少对外国设备的依赖。

参考文献

• 上海微电子有限公司
• EE Times：SMEC 28nm 光刻机
• Semiconductor Today：SMEC 将于 2024 年开始 28nm 光刻生产