上海微电子28nm光刻机 (上海微电子28nm光刻机最新进展)

概述

上海微电子28nm光刻机是中国自主研发的首台28纳米光刻机，具有里程碑意义。光刻机是半导体制造中最关键的设备之一，用于在晶圆上制造微电子电路。

上海微电子的28nm光刻机于2022年12月首次亮相，引起了业界的广泛关注和期待。这标志着中国在光刻机领域取得了重大突破，也是中国集成电路产业发展的重要里程碑。

技术特点

上海微电子的28nm光刻机采用了先进的技术，包括：

• EUV极紫外光源：EUV光源波长更短，分辨率更高，可以蚀刻更精细的电路。
• 浸没式光刻：利用液体介质提高光线分辨率，减小失真。

• 高精度对准系统：确保晶圆和光刻掩模对齐精度达到纳米级。
• 全自动控制系统：实现光刻过程全自动化，提高生产效率和稳定性。

这些技术的结合，使上海微电子的28nm光刻机具有以下优势：

• 高分辨率：可加工28nm以下线宽的电路。
• 高生产效率：采用并行曝光方式，大幅提高生产速度。
• 低成本：与海外同类产品相比，具有更低的成本优势。

市场前景

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