上海微电子28纳米光刻机最新进展 (上海微电子28nm光刻机)

背景

光刻机是集成电路制造中最关键的设备之一，用于将电路图案转移到硅片上。上海微电子是中国领先的光刻机制造商，近年来一直在研发28纳米光刻机。

技术突破

上海微电子28纳米光刻机采用了一系列先进技术，包括：

• 浸没式曝光：在曝光过程中将透镜浸没在液体介质中，从而消除光线在空气和硅片界面处的衍射，提高分辨率。
• 极紫外光（EUV）激光：使用波长更短的EUV光，可以进一步提高分辨率和光刻精度。

• 双工作台设计：两个工作台交替工作，提高生产效率。
• 先进的控制系统：通过实时监控和调整，确保光