背景 光刻机是集成电路制造中最关键的设备之一，用于将电路图案转移到硅片上。上海微电子是中国领先的光刻机制造商，近年来一直在研发28纳米光刻机。 技术突破 上海微电子28纳米光刻机采用了一系列先进技术，包括： 浸没式曝光：在曝光过程中将透镜浸没在液...

概要 上海微电子装备（集团）有限公司（SIMEC）是国内领先的光刻机制造商。近日，SIMEC 宣布其 28 纳米光刻机已经取得重大进展，有望打破国外厂商对高端光刻机市场的垄断。 技术突破 SIMEC 的 28 纳米光刻机采用了一系列先进的技术，包括：...