上海微电子28nm光刻机交付时间 (上海微电子28nm光刻机最新进展)

最新进展

上海微电子（SMEE）预计其国产28nm光刻机将于2023年交付。该光刻机采用了自主知识产权的浸润式工艺，性能达到国际先进水平。一旦交付，它将成为中国首台国产28nm光刻机，标志着中国半导体制造技术的一个重大突破。

光刻机的重要性

光刻机是半导体制造过程中最重要的设备之一。它通过将电路图样曝光到晶圆上，创建集成电路（IC）的微小特征。光刻机的精度和分辨率直接决定了IC的性能和复杂程度。

28nm制程是目前主流的半导体制程之一，广泛应用于智能手机、平板电脑、汽车电子等领域。28nm光刻机的国产化将极大地降低中国对进口光刻机的依赖，促进国内半导体产业的发展。

上海微电子的技术优势

上海微电子在光刻机研发领域拥有多年经验，积累了丰富的技术知识。其28nm光刻机采用了浸润式工艺，通过在晶