上海微电子28nm光刻机交付 (上海微电子28nm光刻机最新进展)

上海品茶 07-28 阅读：1 评论：18

2023 年 3 月 15 日，上海微电子设备 (SMEE) 正式交付其首台 28 纳米光刻机，标志着中国在半导体制造技术方面取得重大突破。

光刻机的重要性

光刻机是半导体制造中最关键的设备之一。它将设计图案通过光线投射到硅片上，形成微芯片的基础结构。

先进的光刻机可以制造具有更小特征尺寸的芯片，从而提高其性能和能效。28 纳米光刻机是当前最先进的光刻机技术之一，能够制造出 28 纳米以下特征尺寸的芯片。

上海微电子是中国领先的半导体设备制造商。经过多年的研发，该公司已成功开发出 28 纳米光刻机，填补了中国在这一领域的空白。

该光刻机的交付是中国半导体产业的一个里程碑事件，表明中国在核心技术方面取得了长足的进步。

上海微电子的 28 纳米光刻机采用浸没式光刻技术，这是一种使用液体作为透镜介质来提高分辨率的技术。该光刻机具有以下特点：

上海微电子的 28 纳米光刻机交付将对中国半导体产业产生重大影响

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