光刻机唯一上市公司上海微电子 (光刻机唯一上市公司苏大维格)

光刻机是半导体制造过程中至关重要的一项设备，它通过光刻技术将电路图样转移到硅片上。光刻机的精度和性能直接影响着芯片的良率和性能，因此光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

目前，全球光刻机市场主要被 ASML、尼康和佳能三家公司占据，其中 ASML 独占鳌头，市场份额超过 80%。中国本土的光刻机企业中，上海微电子和苏大维格是比较知名的两家公司。

上海微电子

上海微电子成立于 1961 年，是中国最早从事半导体设备研发的企业之一。1993 年，上海微电子成功研制出中国第一台步进式光刻机，打破了国外垄断。目前，上海微电子已形成以光刻机为主导，涵盖微电子装备、集成电路、电子材料等业务板块的产业集群。

上海微电子在光刻机领域的技术实力不断提升，截至目前，其已研发出 90nm、65nm、45nm、28nm 等多款光刻机产品。2021 年，上海微电子成功研制出国内首台 28nm ArF 光刻机，标志着中国光刻机技术迈入国际先进水平。

2022 年 7 月，上海微电子在科创板上市，成为光刻机行业唯一一家上市公司。上市后，上海微电子将进一步加大研发投入，加快国产光刻机的国产化进程。

苏大维格

苏大维格成立于 2004 年，是国内最早从事微纳光刻装备研发的企业之一。公司专注于高端光刻技术和设备的研发、生产和销售，主要产品包括光刻机、电子束曝光机、掩模版修复设备等。

苏大维格在光刻机领域的研发实力也不容小觑，其先后研发出 90nm、65nm、45nm、28nm 等多款光刻机产品。2022 年，苏大维格成功研制出国内首台 28nm KrF 光刻机，填补了国内在该领域的空白。

虽然苏大维格目前还没有上市，但其发展势头良好。2022 年，苏大维格完成 B 轮融资，融资金额超过 10 亿元人民币。融资后，苏大维格将进一步完善产品线，提高产能，加快国产光刻机的推广和应用。

国产光刻机的挑战和机遇

虽然上海微电子和苏大维格等国产光刻机企业发展势头良好，但国产光刻机产业仍面临着许多挑战，包括：

• 技术差距：与 ASML 等国外领先企业相比，国产光刻机的技术水平仍有一定差距，尤其是高端光刻机领域。
• 人才短缺：光刻机行业是一个高技术密集型行业，需要大量的专业人才，而目前国内光刻机人才培养体系尚不完善。
• 产业链不完善：国产光刻机的供应链还比较薄弱，许多关键零部件需要依赖进口。

不过，国产光刻机产业也面临着巨大的机遇，包括：

• 国家政策支持：国家高度重视光刻机产业的发展，出台了一系列扶持政策。例如，2022 年国家发改委发布了《关于支持新型显示产业健康发展的指导意见》，明确提出要重点支持光刻机等关键装备的研发和产业化。
• 市场空间广阔：中国是全球最大的半导体市场，对光刻机的需求量很大。随着国产光刻机技术水平的不断提高，国产光刻机将有望逐步替代进口产品，占据国内市场。
• 技术进步：随着国产光刻机企业的不懈努力，国产光刻机的技术水平正在不断提升。未来，国产光刻机有望实现技术突破，缩小与国外领先企业的差距。

结论

光刻机是半导体产业的基石，上海微电子和苏大维格等国产光刻机企业的发展为我国半导体产业的自主可控提供了重要支撑。尽管国产光刻机产业仍面临着许多挑战，但在国家政策支持、市场空间广阔和技术进步等有利因素的推动下，国产光刻机产业有望实现长足发展，为我国半导体产业的腾飞贡献力量。