上海微电子28纳米光刻机研发成功 (上海微电子28nm光刻机)

2023年3月8日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称“上海微电子”）宣布，其自主研发的28纳米光刻机已成功研发。这是我国在光刻机领域取得的重大突破，标志着我国半导体产业链关键技术自主可控能力迈上了一个新台阶。

光刻机是半导体制造中不可或缺的关键设备，被誉为“工业皇冠上的明珠”。在过去，我国半导体产业对进口光刻机高度依赖，受制于国外厂商的技术垄断和政治因素，我国半导体产业发展受到严重制约。

上海微电子的28纳米光刻机采用国内自主研发的核心技术，突破了光源、物镜、对准、控制等关键技术，实现了国产光刻机的性能跨越式提升。该光刻机具有以下特点：

• 分辨率达到28纳米，满足当前主流芯片制造需求。
• 采用DUV光源，具有高分辨率和深焦深，提升了芯片制造良率。
• 配备自主研发的物镜，具有高精度和低畸变，确保了光刻掩模图案在晶圆上的精准投影。
• 采用先进的对准系统，实现了亚微米级的高精度对准，保证了芯片叠层结构的准确性。
• 拥有完善的控制系统，实现了光刻工艺过程的自动化和智能化，提升了生产效率。

上海微电子的28纳米光刻机成功研发，打破了国外厂商对我国光刻机的垄断，填补了国内高端光刻机领域的空白。该光刻机的量产将大大提升我国半导体产业链的自主可控能力，为我国芯片制造业的发展提供强有力的支撑。

目前，上海微电子已与国内多家芯片制造企业建立了合作关系，预计28纳米光刻机将于今年年底实现量产。该光刻机的量产将为我国芯片制造业带来以下好处：

• 降低成本：国产光刻机价格较进口光刻机更为优惠，可降低我国芯片制造企业的生产成本。
• 提升良率：国产光刻机性能优异，可提升芯片制造良率，提高芯片成品率。
• 缩短交货周期：国产光刻机交付时间短，可缩短我国芯片制造企业的交货周期，提升市场竞争力。
• 保障安全：国产光刻机打破了国外厂商的垄断，保障了我国半导体产业链的自主可控和安全可信。

上海微电子的28纳米光刻机成功研发，是我国半导体产业发展史上的里程碑事件。该光刻机的量产将极大地促进我国芯片制造业的发展，为我国半导体产业链的自主可控和安全可信奠定坚实的基础。相信在不久的将来，我国将成为光刻机领域的世界领先者，为全球半导体产业的发展做出贡献。