作为我国半导体产业发展的重点领域，光刻机技术一直备受关注。近日，上海微电子设备(集团)股份有限公司（以下简称“上海微电子”）在28nm光刻机研制方面取得了重大进展，标志着我国在半导体设备制造领域迈出了重要一步。 现状和困境 光刻机是半导体制造过程中必不可少的关键...

近日，上海微电子装备（集团）有限公司（简称“上海微电子”）宣布，其自主研发的28nm光刻机已成功量产。 28nm光刻机是集成电路制造过程中必不可少的关键设备，用于将电路图样曝光到硅片上，是集成电路产业链中至关重要的一环。此前，全球28nm及以下制程光刻机市场一直被国外巨...

概述 2023 年 3 月，上海微电子宣布其 28 纳米光刻机已完成设计并进入量产阶段。这一重大突破使中国成为继荷兰 ASML、日本尼康和美国泛林半导体之后，第四个能够生产先进光刻机的国家。 光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备，用于将电路图案转移到硅片上。上海...

上海微电子作为中国领先的光刻机制造商，在28nm光刻机技术方面取得了重大突破。近日，该公司宣布其28nm光刻机已进入量产阶段，标志着中国在光刻机领域迈出了重要一步。 光刻机的重要性 光刻机是半导体制造过程中必不可少的设备，用于将复杂电路图案转移到硅片上。先进的光刻...

概述 上海微电子28nm光刻机是中国自主研发的首台28纳米光刻机，具有里程碑意义。光刻机是半导体制造中最关键的设备之一，用于在晶圆上制造微电子电路。 上海微电子的28nm光刻机于2022年12月首次亮相，引起了业界的广泛关注和期待。这标志着中国在光刻机领域取得了重大突破...

最新进展 上海微电子（SMEE）预计其国产28nm光刻机将于2023年交付。该光刻机采用了自主知识产权的浸润式工艺，性能达到国际先进水平。一旦交付，它将成为中国首台国产28nm光刻机，标志着中国半导体制造技术的一个重大突破。 光刻机的重要性 光刻机是半导体制...

上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称“上海微电子”）是中国半导体装备行业的龙头企业，也是全球领先的光刻机供应商之一。近日，上海微电子宣布其国产28nm光刻机最新进展，引起业界广泛关注。 技术突破 上海微电子28nm光刻机采用了多项自主研发的核心技术，包括：...

2023 年 3 月 15 日，上海微电子设备 (SMEE) 正式交付其首台 28 纳米光刻机，标志着中国在半导体制造技术方面取得重大突破。 光刻机的重要性 光刻机是半导体制造中最关键的设备之一。它将设计图案通过光线投射到硅片上，形成微芯片的基础结构。 先进...

随着半导体技术的发展，光刻机的精度和生产能力也越来越受到重视。作为中国本土光刻机企业的领军者，上海微电子在28nm光刻机的研发上取得了重大突破。 光刻机原理 光刻机是一种用于制造集成电路（IC）的精密设备。其原理是利用紫外光或极紫外光（EUV）对光敏胶进行曝光，从...

概要 上海微电子装备（集团）有限公司（SIMEC）是国内领先的光刻机制造商。近日，SIMEC 宣布其 28 纳米光刻机已经取得重大进展，有望打破国外厂商对高端光刻机市场的垄断。 技术突破 SIMEC 的 28 纳米光刻机采用了一系列先进的技术，包括：...