上海微电子是中国领先的半导体设备制造商，最近宣布取得了在 28nm 工艺节点制造光刻机的重大进展。 EUV 光刻技术 极紫外线 (EUV) 光刻是下一代光刻技术，用于制造更先进的半导体芯片。EUV 光具有更短的波长，使其能够创建更精细的图形，从而实现更高的芯片密度...

上海微电子光刻机 28nm 是一款由上海微电子制造的用于生产半导体的光刻机。 产品特点 分辨率：28nm 曝光场尺寸：26mm x 33mm 量产能力：每小时 120 片晶圆 采用 1...