上海微电子光刻机28nm (上海微电子光刻机)

上海微电子光刻机 28nm 是一款由上海微电子制造的用于生产半导体的光刻机。

产品特点

• 分辨率：28nm
• 曝光场尺寸：26mm x 33mm
• 量产能力：每小时 120 片晶圆
• 采用 193nm ArF 准分子激光
• 具有先进的透镜系统和照明系统
• 支持多种工艺流程，如 DUV、EUV 和 NIL

技术优势

上海微电子光刻机 28nm 采用了多项先进技术，包括：

• 高精度对准系统：该系统采用双对准技术，可以实现亚微米级的对准精度。

• 高能透镜系统：该系统采用非球面透镜和高折射率材料，可以提供高分辨率和低失真。
• 先进的照明系统：该系统采用了环形照明技术和波前整形技术，可以实现均匀的照明和减少曝光缺陷。
• 完善的工艺控制系统：该系统通过实时监控和反馈控制，可以实现工艺过程的稳定性和可重复性。

应用领域

上海微电子