概述 2023 年 3 月，上海微电子宣布其 28 纳米光刻机已完成设计并进入量产阶段。这一重大突破使中国成为继荷兰 ASML、日本尼康和美国泛林半导体之后，第四个能够生产先进光刻机的国家。 光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备，用于将电路图案转移到硅片上。上海...

2023年3月1日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（以下简称“上海微电子”）宣布，其自主研发的28纳米光刻机已成功量产，标志着中国在高端芯片制造装备领域取得重大突破。 光刻机的重要意义 光刻机是半导体芯片制造过程中至关重要的设备，其精度和分辨率直接决定了芯片的...